Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system (1995)
Source: Proceedings. Conference titles: Congress of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
OSORIO, S P A e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 21 maio 2024.APA
Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1995). Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs.NLM
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 maio 21 ]Vancouver
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 maio 21 ]